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無(wú)塵烤箱廠家無(wú)塵等級(jí)：Class 100、10; 溫度范圍：RT+10～300℃；用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤
清潔烤箱，無(wú)塵烤箱用于IC生產(chǎn)過(guò)程中極為重要的光刻工藝中預(yù)烘烤（軟烘），脫水烘烤，涂膠后的堅(jiān)膜烘烤（硬烘）；也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、OLED、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門(mén)。
為了獲得良好的聚酰亞胺性能，非常好的溫度均勻性，低氧含量和低顆粒數(shù)是非常重要的，無(wú)塵烤箱,非光敏型聚酰亞胺樹(shù)脂（PI）烤箱腔內(nèi)的氣體保持相當(dāng)干凈（100級(jí)），良好的溫度均勻性。通過(guò)氮?dú)獯祾呖蓪⒀鯕夂拷档椭?0ppm以下。這保證了非光敏聚酰亞胺的優(yōu)異工藝結(jié)果。
無(wú)塵室烤箱，半導(dǎo)體無(wú)塵烤箱用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門(mén)；HMDS無(wú)塵烤箱可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
無(wú)塵室干燥箱，試驗(yàn)用百級(jí)烤箱用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤、工裝夾具烘烤；也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門(mén)；也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗(yàn)。
加工半導(dǎo)體用烤箱， SECS / GEM無(wú)塵烤箱用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后固化、堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門(mén)；可以使用TCP / IP（使用HSMS標(biāo)準(zhǔn)，SEMI E37）或基于RS-232的協(xié)議與支持GEM的主機(jī)進(jìn)行通信。通常這兩種協(xié)議都受支持。每臺(tái)設(shè)備都可以使用由GEM
無(wú)塵烘箱，不銹鋼無(wú)塵烤箱無(wú)塵等級(jí)：Class 100、10; 溫度范圍：RT+10～300℃；用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤
