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無(wú)塵烘箱,無(wú)塵固化烤箱 工業(yè)烘箱

無(wú)塵烘箱,無(wú)塵固化烤箱 工業(yè)烘箱

簡(jiǎn)要描述:

無(wú)塵烘箱,無(wú)塵固化烤箱用于高精度硅上薄膜電阻制造過(guò)程中堅(jiān)膜工藝。也用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤。

無(wú)塵烘箱,無(wú)塵固化烤箱技術(shù)參數(shù)
1、 無(wú)塵等級(jí):Class 100;     
2、 溫度均勻度:±2℃;    
3、 溫度波動(dòng)度:±0.5℃(空載);        
4、 溫控精度:±0.1℃;
5、 溫度范圍:RT+10-200/300℃;
6、 升溫速率:≥8℃/min(可修改);
7、 內(nèi)腔材質(zhì):SUS304#鏡面不銹鋼;
8、 外箱材質(zhì):優(yōu)質(zhì)冷軋板噴塑或SUS304#不銹鋼;
9、 密封條:耐高溫氟橡膠密封條;
10、氮?dú)庋b置:可調(diào)式浮子流量計(jì);
11、安全裝置:漏電保護(hù),超溫保護(hù),三色提示燈等。

無(wú)塵烘箱,無(wú)塵固化烤箱概述
       無(wú)塵烤箱用于高精度硅上薄膜電阻制造過(guò)程中堅(jiān)膜工藝。也用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤。
 

 

無(wú)氧化烤箱,高溫?zé)o氧化烤箱概述

無(wú)氧化烤箱應(yīng)用于精密電子元件、PI、BCB膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無(wú)塵烘干的特殊工藝要求,形成高溫、低氧(無(wú)氧)、潔凈環(huán)境,特別適合半導(dǎo)體制造、COB封裝、醫(yī)療衛(wèi)生、柔性線路板印刷、精密模具煺火等行業(yè)的無(wú)氧化干燥烘烤工藝要求,廣泛應(yīng)用于電子產(chǎn)品、五金制品、醫(yī)療衛(wèi)生、儀器儀表、工廠、高等院校、科研等行業(yè)。

無(wú)氧化烤箱,高溫?zé)o氧化烤箱技術(shù)參數(shù)

Ø 內(nèi)部尺寸:600*700*800mm(深*寬*高)

Ø 材質(zhì):外箱采用優(yōu)質(zhì)冷軋板噴塑,內(nèi)箱采用SUS304不銹鋼

Ø 溫度范圍:RT+10-250℃

Ø 溫度分辨率:0.1℃

Ø 溫度波動(dòng)度:<±1℃

Ø 溫度均勻度:≤±1.5%

Ø 升溫速率:5℃/min,(空箱測(cè)試)

Ø 降溫時(shí)間:可滿足180℃-60℃,降溫4℃/min(空箱測(cè)試)

Ø 電源:380V 50HZ ,6KW

Ø 計(jì)時(shí)功能:具有獨(dú)立的計(jì)時(shí)器,計(jì)時(shí)開關(guān),計(jì)時(shí)報(bào)警器

Ø 氧含量

高溫狀態(tài)氧含量:≤ 20ppm +氣源氧含量

低溫狀態(tài)氧含量:≤ 50ppm +氣源氧含量

Ø 氮?dú)饪刂疲毫髁坑?jì)節(jié)氮系統(tǒng),無(wú)氧、低氧環(huán)境下大節(jié)省氮?dú)庀牧?/span>

Ø 鼓風(fēng)裝置:采用大功率耐高溫長(zhǎng)軸馬達(dá),大口徑不銹鋼渦輪扇葉,可在高溫環(huán)境下長(zhǎng)期穩(wěn)定工作

Ø 氮?dú)鈨艋到y(tǒng):微型油水塵埃過(guò)濾組mini fulter,可對(duì)氮?dú)庥退?.1μm顆粒進(jìn)行過(guò)慮

 

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